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1 chemisch-mechanisches Polieren
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2 CMP
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Chemisch-mechanisches Polieren — Chemisch mechanisches Polieren, auch chemisch mechanisches Planarisieren (CMP, engl: chemical mechanical polishing, auch chemical mechanical planarization) ist ein Polierverfahren in der Waferbearbeitung um dünne Schichten gleichmäßig abzutragen … Deutsch Wikipedia
Chemisch-mechanische Politur — Chemisch mechanisches Polieren (CMP) (engl: chemical mechanical polishing, auch chemical mechanical planarization) ist ein Polierverfahren in der Waferbearbeitung um sehr dünne Schichten gleichmäßig abzutragen. Diese Methode wurde an US… … Deutsch Wikipedia
Chemical Mechanical Polishing — Chemisch mechanisches Polieren (CMP) (engl: chemical mechanical polishing, auch chemical mechanical planarization) ist ein Polierverfahren in der Waferbearbeitung um sehr dünne Schichten gleichmäßig abzutragen. Diese Methode wurde an US… … Deutsch Wikipedia
Halbleitertechnologie — Die Halbleitertechik definiert sich historisch und aufgrund der Verwendung der Produkte als Schlüsselkomponenten in elektrotechnischen Erzeugnissen als Teilgebiet der Elektrotechnik. Trifft man die Zuordnung aufgrund der eingesetzten Methoden und … Deutsch Wikipedia
Halbleitertechnik — Die Halbleitertechnik definiert sich historisch und aufgrund der Verwendung der Produkte als Schlüsselkomponenten in elektrotechnischen Erzeugnissen als Teilgebiet der Elektrotechnik (speziell der Mikroelektronik). Trifft man die Zuordnung… … Deutsch Wikipedia
E1201 — Strukturformel Allgemeines Name Polyvinylpyrrolidon Andere Namen 1 Ethenyl 2 pyrrolidon … Deutsch Wikipedia
E1202 — Strukturformel Allgemeines Name Polyvinylpyrrolidon Andere Namen 1 Ethenyl 2 pyrrolidon … Deutsch Wikipedia
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Polyvidon — Strukturformel Allgemeines Name Polyvinylpyrrolidon Andere Namen 1 Ethenyl 2 pyrrolidon … Deutsch Wikipedia
Polyvidon-Iod — Strukturformel Allgemeines Name Polyvinylpyrrolidon Andere Namen 1 Ethenyl 2 pyrrolidon … Deutsch Wikipedia
